V光刻机原型机制作之后，认为还需要投入至少50亿欧元，约人民币410亿。”

立夏解释道：“ASML的50亿欧元投入是EUV光刻机商用量产，我们现在是解决基于DUV ArF沉浸式光刻产业链的实验级产出，又有多种成功方案参照，全线投入研究资源一期成功率约为98。”

李泽其实是有一点委婉的劝退意思，他用ASML举例是想说明实验级产品到商用有一条鸿沟。

一期投692个亿只是出