第438章 光刻机项目:另辟蹊径(2 / 28)

基本上只能做到25nIntel凭借双工作台的模式做到了10n但是却无法达到10n下。

只有EUV能满足10n下的晶圆制造,并且还可以向5n3n续延伸。

这个线宽其实就是跟光的线宽有关系,比如可见光的G线,那就是436n如果用来刻蚀,线路肯定很宽。

可以简单地认为,光刻机的光系统其实就是一支画笔,不同的光代表不同粗细大小的笔芯,越细的笔(光)能够画越细越复杂的画。