第438章 光刻机项目:另辟蹊径(1 / 28)

沐阳研究更新后的阅读系统两个多小时才研究透,兴奋得睡不着。

喝了一杯茶,他想看看芯片制造技术的核心设备:光刻机。

目前市场上,有两种主流光刻机,一个是DUV光刻机,另一个是EUV光刻机。DUV是深紫外线(DeepUltravioletLithography),EUV是极深紫外线(ExtreUltravioletLithography)。

从制程范围来看,DUV