年左右，中科院半导体所开始研制-型半自动接近式光刻机，于年研制成功两台样机。

而由于美国在年代就已经拥有了接触式光刻机，相比之下，中国落后了将近年，同时国外从年开始转向分步重复投影光刻，此时中国科学界也认识到，分布投影光刻技术的优越性，但限于国内工业技术差难以实现。

在年世界上第台光刻机问世不久，机电部第所，就开始跟踪研究分步式光刻机，对标美国的，年研制出了-分部光刻机