造装备产品化，现在都12·5了，产品化没做到，只有实验机；

最高要求需要开展14nm及更精密工艺前瞻性研究。

毫无疑问，这必然是需要进行EUV光刻机研发领域。

额外的，02专项还要求在12·5期间进行45~22纳米关键制造装备攻关。

之前没能按照要求完成90纳米制造装备产品化，现在已经进入了12·5半年多了，眼瞅着本来上个五年该实现的目标能在这个五年完成都得