刻机。

但是这没太大用处，填补一下国内空白可以，但是和国外比还是差距很大。

而江宇提出的湿式光刻法虽然研究出了理论，也获得了专利。

但离做成可投入商用的光刻机，还需要几年。

徐家树也不好说这个时间需要多少，也许三年五年，也许十年八年。

不过芯片方面，杨成邦的队伍取得的成绩可不小。

最近他们用市场上能买到了本子国光刻机，流片193纳米芯片成