备的相关工程优化工作没有很好的开展……”

简单描述了与张博士的交流，立夏提到了关键点：“根据相关技术支撑给出的意见，博士的研究方向甚至比国外一些公司的技术更先进，功率更高，应用范围非常广泛；

能应用于EUV显微镜、EUV光刻胶开发、EUV计量工具、EUV光刻掩模等方面的研究；

以及在任何一个需要有扩展光源的地方通过迭代进行应用，甚至应用范围能广泛到X射线成像。”