接触式光刻机，此技术已近世界顶尖水平。

而到了1972年，武汉无线电元件三厂编写了行业生产指导《光刻掩模版的制造》;1977年，我国gk-3型半自动光刻机诞生，达到国际主流水平。

相比之下，日后的光刻机巨头asl公司还没有成立，台积电成立的时间比asl还要晚一些。

可以这么说，如果我们不下马光刻项目，世界光刻领域可能就没有asl和台积电的事儿，哪还有日后芯片被扼住喉咙